Graphite avec revêtement SiC PERMA KOTE™

Réacteurs refroidis au gaz à haute température

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PERMA KOTE™ est un produit créé en appliquant sur la surface de graphite isotropique hautement purifié un revêtement formé d’une fine couche de carbure de silicium à l’aide du processus de déposition chimique en phase vapeur (Chemical Vapor Deposition, CVD) propriété de Toyo Tanso.

Suscepteur MOCVD

Réflecteur (Équipement de fabrication
de silicium monocristallin)

Suscepteur pancake

Suscepteur de fût

Caractéristiques

La couche en carbure de silicium se caractérise par une excellente résistance chimique, à l’oxydation et à la corrosion.
La couche en carbure de silicium est stable à des températures élevées et elle est extrêmement dure.
Evite la séparation et la dispersion des particules de graphites ainsi que les émissions de gaz et des impuretés depuis le substrat graphite.
Le substrat graphite et la couche en carbure de silicium sont caractérisés par une pureté élevée.
Le substrat graphite et la couche en carbure de silicium sont caractérisés par une conductivité thermique élevée ainsi que d'excellentes propriétés de distribution de la chaleur.
Le matériau est conçu de manière à éviter les fissures et les éclats.

Application

Suscepteur pour croissance de silicium épitaxiale
Equipement de fabrication de silicium monocristallin
Suscepteurs MOCVD
Eléments chauffants
Diffuseurs de chaleur
Composant à résistance d'oxydation

Epaisseur du revêtement

L'épaisseur standard est de 120 μm ; ceci peut toutefois être modifié dans une plage de 20 à 500 μm.

Propriétés/Données du test

Résistance à la corrosion

Nom	Formule chimique	Concentration (%)	Température (°C)	Durée (h)	Variation de masse (g/m2)
Acide hydrofluorique	HF	47	80	144	-1,0
Acide hydrochlorique	HCl	36	Point d'ébullition	144	0
Acide sulfurique	H₂SO₄	97	110	144	0
Acide nitrique	HNO₃	61	Point d'ébullition	144	0
Acide hydrofluorique + acide nitrique	HF+HNO₃ (1:1)	100	80	288	-1,0
Acide citrique + acide sulfurique	HNO₃+H₂SO₄ (1:1)	100	25	288	-1,0
Hydroxyde de sodium	NaOH	20	80	288	0
Acide phosphorique	H₃PO₄	100	100	192	-1,0
Acide nitrohydrochlorique	HCl+HNO₃ (3:1)	100	80	192	0

Réactivité avec différentes substances (dans le vide)

Réactif	Formule chimique	1 200°C x 3h	1 600°C x 3h
Aluminium	Al	○	△
Bore	B	◎	◎
Cobalt	Co	△	×
Chrome	Cr	△	×
Cuivre	Cu	○	△
Fer	Fe	×	×
Molybdène	Mo	◎	○
Nickel	Ni	◎	×
Plomb	Pb	△	×
Silicium	Si	◎	○
Etain	Sn	◎	△
Tantale	Ta	◎	◎
Titane	Ti	◎	○
Vanadium	V	◎	×
Tungstène	W	◎	○
Alumine	Al₂O₃	◎	×
Oxyde de bore	B₂O₃	◎	◎
Oxyde de chrome (Ⅲ)	Cr₂O₃	◎	×
Oxyde de fer (Ⅲ)	Fe₂O₃	×	×
Oxyde de magnésium	MgO	◎	△
Oxyde de manganèse (IV)	MnO₂	◎	×
Oxyde de plomb (Ⅱ)	PbO	○	△
Oxyde de silicium	SiO₂	◎	△
Oxyde de titane (IV)	TiO₂	◎	○
Oxyde de vanadium (V)	V₂O₅	◎	△
Oxyde de zirconium (IV)	ZrO₂	◎	○

◎...Aucune réaction ○...Légère réaction
△...Réaction ×...Réaction significative

Propriétés de la couche

Structure cristalline	Structure β-SiC (système cubique)
Densité de masse	3,2 mg/m³
Température de décomposition	2 700°C ou plus
Dureté	2800 HK
Résistivité électrique	0,2 Ω・m (par la méthode de la chute du potentiel)
Résistance à la flexion	170 MPa (par pliage à 3 points)
Module de Young	320 GPa (par la méthode de déflection)

Exemple d’analyse d’impureté masse ppm

Elément	Contenu
B	0,15
Na	0,02
Al	0,01
Cr	<0,1
Fe	0,02
Ni	< 0,01

* Méthode de mesure : spectrométrie de masse à décharge continue
* Les chiffres ci-dessus sont des exemples de mesures et ne sont pas être garantis.
Avant d’utiliser l’un de nos produits, veuillez vous référer à notre catalogue et n’hésitez pas à contacter notre service commercial pour vous conseiller sur le choix de la qualité la plus appropriée.