GlobalNetwork
Global Site
Americas
United States
Mexico
Europe
France
Germany
Asia - Pacific
Japan
China
Taiwan
Korea
Thailand
Singapore
India
Indonesia

Inspirasi TOYO TANSO untuk inovasi

Indonesia / English | Japanese | Indonesian
BERANDA Produk Perawatan Permukaan Grafit berlapis SiC PERMA KOTE™

Grafit berlapis SiC PERMA KOTE™

Reaktor berpendingin gas suhu tinggi
PERMA KOTE™ adalah produk yang dibuat dengan melapisi permukaan grafit isotropik yang sangat murni dengan lapisan silikon karbida yang halus melalui proses Deposisi Uap Kimia (CVD) milik Toyo Tanso.

Susceptor MOCVD
 

Grafit Khusus

Reflektor (Peralatan manufaktur
silikon kristal tunggal)

Grafit Khusus

Susceptor pancake

Susceptor pancake

Suseptor barel

Suseptor barel

Karakteristik

  • Lapisan silikon karbida memiliki resistensi oksidasi, resistensi korosi dan resistensi kimia yang sangat bagus.
  • Lapisan silikon karbida bersifat stabil pada suhu yang tinggi dan sangat keras.
  • Mencegah pelepasan dan penyebaran partikel grafit, dan emisi gas dan cemaran dari substrat grafit.
  • Baik substrat grafitt maupun lapisan silikon karbida sama-sama memiliki kemurnian yang tinggi.
  • Baik substrat grafitt maupun lapisan silikon karbida sama-sama memiliki konduktivitas panas yang tinggi, dan sifat penyebar panas yang sangat bagus.
  • Bahan ini dirancang agar tidak terjadi retakan dan pengelupasan.

Aplikasi

  • Suseptor untuk pertumbuhan epitaksial silikon
  • Perlengkapan manufaktur silikon kristal tunggal
  • Susceptor MOCVD
  • Pemanas
  • Penyebar panas
  • Komponen-komponen anti-oksidasi

Ketebalan Pelapisan

Ketebalan Pelapisan
Standar ketebalannya adalah 120 μm; Namun bisa dimodifikasi dalam rentang 20 hiingga 500 μm.

Properti/Data Uji

Resistensi Korosi

Nama Rumus Kimia Konsentrasi (%) Suhu (°C) Waktu (jam) Perubahan dalam massa (g/m2)
Asam hidroflorik HF 47 80 144 -1,0
Asam hidroklorik HCl 36 Titik didih 144 0
Asam sulfur H2SO4 97 110 144 0
Asam nitrat HNO3 61 Titik didih 144 0
Asam hidroflorik + asam nitrat HF+HNO3 (1:1) 100 80 288 -1,0
Asam nitrat + asam belerang HNO3+H2SO4 (1:1) 100 25 288 -1,0
Natrium hidroksida NaOH 20 80 288 0
Asam posforik H3PO4 100 100 192 -1,0
Asam nitrohidroklorik HCl+HNO3 (3:1) 100 80 192 0

Reaktivitas dengan berbagai zat (dalam ruang hampa)

Reaktan Rumus Kimia 1200 °C×3h 1600 °C×3h
Aluminium Al
Boron B
Kobal Co ×
Kromium Cr ×
Tembaga Cu
Besi Fe × ×
Molibdenum Mo
Nikel Ni ×
Timah Hitam Pb ×
Silikon Si
Timah Putih Sn
Tantalum Ta
Titanium Ti
Vanadium V ×
Tungsten W
Alumina Al2O3 ×
Boron oksida B2O3
Kromium oksida (Ⅲ) Cr2O3 ×
Besi oksida (Ⅲ) Fe2O3 × ×
Magneisum oksida MgO
Mangan oksida (Ⅳ) MnO2 ×
Timbel oksida (Ⅱ) PbO
Silikon oksida SiO2
Titanium oksida (Ⅳ) TiO2
Vanadium oksida (Ⅴ) V2O5
Zirkonium oksida (Ⅳ) ZrO2

◎...Tidak ada reaksi ○...Sedikit reaksi
△...Reaksi ×...Reaksi signifikan

Properti Lapisan

Struktur kristal
Struktur ß-SiC (Sistem kubik)
Struktur ß-SiC (Sistem kubik)
Kerapatan curah 3,2 Mg/m3
Suhu Dekomposisi 2700 °C atau lebih tinggi
Kekerasan 2800HK
Resistivitas Listrik 0.2 Ω·m (melalui metode potensial jatuh)
Daya Lenturan 170 MPa (melalui pembengkokan 3-titik)
Modulus Young 320 GPa (melalui metode defleksi)

Massa contoh analisis impuritas ppm

Unsur Isi
B 0,15
Na 0,02
Al 0,01
Cr < 0,1
Fe 0,02
Ni < 0,01

* Metode pengukuran: Spektrometri Massa Pelepasan Pijar
* Gambar di atas adalah contoh pengukuran dan tidak untuk dijamin.
Sebelum benar-benar menggunakan salah satu produk kami, silakan merujuk ke katalog kami dan pastikan untuk menghubungi departemen penjualan kami untuk berkonsultasi untuk memilih grade yang paling sesuai.