Unsere Graphitprodukte werden in großem Umfang bei der Herstellung von polykristallinem Silizium verwendet, einem der Verfahren zur Herstellung von Solarzellen in Sonnenkollektoren.

Bei der Herstellung der Siliziumbarren, aus denen diese Photovoltaikzellen geformt werden, ist die Schmelztemperatur mit ca. 1.500 °C extrem hoch. Isotroper Graphit, der sich durch eine hervorragende Wärmebeständigkeit auszeichnet, wird daher in großem Umfang für rechteckige Schmelztiegel, Heizer, Schutzabdeckungen für Isolierungen und andere Komponenten von Gießöfen verwendet.

Zur Verbesserung der Produktionseffizienz und zur Kostensenkung werden auch größere Barrengrößen entwickelt.

Als Antwort auf diese Vergrößerungen können wir leichtere Öfen mit isotropen Graphitmaterialien und C/C-Verbundwerkstoffen konstruieren und mithilfe unserer Analysetechnologien optimale Formen zur Verlängerung der Produktlebensdauer vorschlagen.

Unsere ultrahochreinen Graphitprodukte werden in großem Umfang in Reaktoren und Konvertern bei der Herstellung von hochreinem Polysilizium eingesetzt, dem Ausgangsmaterial für die Silizium-Wafer, die in Halbleitern und Photovoltaikzellen verwendet werden.

Der hohe Reinheitsgrad und die hervorragende elektrische Leitfähigkeit von Graphit werden in Seed Chucks, die in direktem Kontakt mit der Siliziumsaat stehen, und in Bauteilen für den Einsatz im Ofeninneren vorteilhaft genutzt.

Wir bieten eine breite Palette von Güteklassen an und können für Sie das ideale Material für eine Vielzahl von Anforderungen auswählen, beispielsweise für Qualitätsverbesserungen und Kostensenkungen.